摘要：

ZMPS-SALD01-300空間原子層沉積設(shè)備

此設(shè)備用于在玻璃基板（基板尺寸300×300mm）表面沉積各種薄膜，可以制備出高質(zhì)量的導(dǎo)電材料、絕緣材料和金屬氧化物等納米薄膜，這些薄膜在傳感器、光電器件和阻隔層等方面具有重要應(yīng)用價(jià)值。

設(shè)備參數(shù)

序號(hào)項(xiàng)目參數(shù)
1設(shè)備尺寸1400×1200×2500mm
2設(shè)備重量1500kg
3旋渦氣泵電壓：220V，功率：1.5kW
4旋渦氣泵流速240m3/h
5基片臺(tái)溫度MAX400℃
6管路溫度MAX200℃
7源瓶溫度MAX200℃
8標(biāo)配源的數(shù)量兩路源

基板規(guī)格

序號(hào)項(xiàng)目標(biāo)準(zhǔn)公差
1尺寸300×300mm以內(nèi)各邊±1mm
2材料玻璃/
3厚度1～3.2mm±0.2mm
4最大允許彎曲對(duì)角線方向≤0.5mm/m/
5邊緣C角/
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